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超维科技纪元:正文卷 第四十二章 野望

    放松了一天。

    黄明哲年初四就接到马知力的报告,他连忙赶过去材料研究所。

    “社长,你终于来了。”马知力兴奋的边走边说。

    看着马知力等人那满眼血丝、头发乱糟糟的样子,就知道他们这些天一直在测试光敏材料规律模型。

    “老马要劳逸结合,办公室谈吧!”黄明哲向办公室去。

    “多谢社长关心,我一时间太兴奋而已。”

    办公室里面,在场只有马知力和四个研究员,其他人都还没有回来上班。

    “都坐。”黄明哲坐下之后:“模型计算出来的出材效率是8.6%左右,而出材合格率是1.7%左右。”

    “是的,社长。”马知力兴奋的说道:“社长,你研发的计算模型太厉害了,简直是材料研发的神器。”

    “宇宙万物都在数学之中,没有什么不可以被计算。”黄明哲微笑着说道。

    如果之前有人在马知力等人面前这样说,他们绝对会嗤之以鼻,但是现在他们已经有些相信了。

    “社长,你这个模型要是发出去,估计可以引发材料学革命。”马知力赞叹道。

    黄明哲摇摇头说道:“这种国际精神要不得,这个模型我们内部自己用就可以了。”

    “社长说得对。”

    “我看了你们的报告,现在我给你们下一个任务。”

    “社长请吩咐。”马知力连忙拿出笔记本说道。

    “研发一种X射线高敏胶。”

    “X射线高敏胶?社长是想研发光刻胶吧!”马知力一听便知道黄明哲的打算。

    黄明哲点了点头:“没有错,就是X射线级别的光刻胶,我提几个要求,波长最好在3~8纳米之间;X射线敏感度要足够高,最好可以在几秒钟之内彻底溶解;另外对于X射线的能量级别,最好不需要高能级就可以实现快速光分解。”

    “社长,如果我们研发X射线光刻胶,这个可是没有客户的。”马知力提醒道。

    目前市面上的光刻机的光源,一般分为紫外光(UV)、深紫外光(DUV)、极紫外光(EUV),其中最先进的光刻机,就是尼德兰的阿斯麦公司生产的极紫外光(EUV),波长为13.4纳米。

    但是其实在上个世纪八十年代,光刻机行业之中,还有除了极紫外光(EUV)路线,还存在着另一个路线——X射线光刻机。

    为什么波长在10纳米以下的X射线光刻机,最后被极紫外光(EUV)淘汰?

    原因有两个,一是效率问题,X射线照射下光刻胶的光刻速度比较慢;二是精确度问题,为什么说波长10纳米以下的X射线,光刻精度差?因为掩模做不到10纳米以下。

    掩模就是电路图的母板,为什么极紫外光(EUV)的精度高,原因在于紫外光可以使用凸透镜缩小从掩模过来的光线,而所有人都知道X射线的穿透力非常强,凸透镜根本无法聚焦。

    所以X射线光刻机被淘汰了。

    市面上没有X射线光刻机,也就意味着没有客户。

    “这个问题不是问题。”

    “社长没有客户的话……”

    黄明哲打断了马知力:“知道X射线光刻机为什么被淘汰吗?”

    马知力点了点头。

    “效率问题在于光刻胶的光敏性,如果我们研发一种可以在几秒钟内完成光刻的X射线光刻胶,那效率还是问题吗?”黄明哲反问道。

    “嗯?”马知力一愣。

    确实如同黄明哲说的那样,光刻效率问题其实就是光刻胶光敏性的影响,归根结底就是材料问题,而材料问题不恰恰就是思维社的强项?

    “至于凸透镜无法聚焦X射线,我们为什么不制造一种可以聚焦X射线的凸透镜,这个同样是凸透镜材料的光敏性,材料可以改变一切。”黄明哲笑着提醒道。

    “对啊!我怎么没有想到?”马知力顿时瞪大眼睛。

    其他人顿时也呼吸急促起来,如果他们解决了光刻胶和凸透镜的光敏性,岂不是相当于完成了X射线光刻机的缺点弥补。

    而X射线光刻机的先天性优势,就是发散性低、光线集中、波长短小精悍。

    “我们要完成一个独立自主的光刻机系统,就不能按部就班走西方人的老路,不然永远无法超越对方。”黄明哲说道。

    这个问题其实就是国内光刻机行业发展的拦路虎,按照西方人的路线走,别人的专利怎么绕过去?

    另外光刻机的市场非常小,全世界来来去去就那么多家芯片制造企业,阿斯麦公司和这些芯片制造企业的关系千丝万缕,哪怕是造出来,估计也卖不出去。

    “社长,我们马上安排材料计算,一定拿下X射线光刻胶和X射线凸透镜。”马知力坚定的说道。

    “注意休息,身体是革命的本钱。”黄明哲关心的说道。

    “多谢社长关心,我一定注意。”

    “老马,另外你们要注意保密,这个东西可是关系到一个行业的话语权,马虎不得。”黄明哲最后提醒道。

    “我一定注意。”马知力脸色顿时一肃。

    ……

    黄明哲随后将蔡知行叫过来,吩咐他准备好相关工作,在国内收购X射线光源制造公司、光学镜片制造公司等等光刻机相关的企业。

    而思维社的计算机编程研究所,本身就拥有非常强大软件实力,毕竟黄明哲可是独立完成了初级人工智能幽灵的存在。

    而之前的仿真空间技术、有限元逆分析技术,也可以助力光刻机的设计。

    尽管思维社买不到阿斯麦公司的极紫外光(EUV)光刻机,但是上沪中微电子的低端光刻机有的是。

    买一台低端光刻机回来,然后使用有限元逆分析,先完成光刻机各个系统整合,然后一步步升级改造,国内可以购买到的零件就不用造,国内没有的想办法自己造。

    2月16日。

    思维社的另一个子公司悄然在汕美市挂牌成立,名字叫神光仪器公司,这个公司成立得非常低调。

    而黄明哲将专门才自己的账户,拨款了4个亿作为初期发展资金。

    而材料研究所方面,尽管有规律模型的辅助,但是材料研发工作没有那么容易。

    他也一直在材料研究所,随着研究所的研究员们陆陆续续复工,各项工作进度正在加快之中。

    “老马,人员不够可以向蔡经理说,让他多招聘一些人。”

    “我晚上整理一下,列出一个缺口名单。”马知力对于黄明哲,现在那是佩服到极点。

    除了光敏材料规律模型,黄明哲这些天又完成了弹性材料规律模型、电容材料规律模型。

    这两个规律模型对于未来的材料学研究,都有非常多应用。

    弹性材料就是不用说了,电容材料通俗的说,就是电能储存材料,和电池差不多。

    交代了一些事情之后,黄明哲便踏上去学校的路途。